真(zhen)空(kong)鍍(du)膜(mo)工(gong)作原理是(shi)膜(mo)體(ti)在(zai)(zai)(zai)高溫下(xia)蒸(zheng)(zheng)發(fa)(fa)落(luo)在(zai)(zai)(zai)工(gong)件表面結(jie)晶(jing)(jing)。由于空(kong)氣對蒸(zheng)(zheng)發(fa)(fa)的膜(mo)體(ti)分子會產(chan)生阻(zu)力造成(cheng)碰撞使結(jie)晶(jing)(jing)體(ti)變得(de)粗糙無光(guang)，所以(yi)必須(xu)在(zai)(zai)(zai)高真(zhen)空(kong)下(xia)才(cai)能(neng)使結(jie)晶(jing)(jing)體(ti)細(xi)密光(guang)亮，果如真(zhen)空(kong)度不高結(jie)晶(jing)(jing)體(ti)就會失去(qu)光(guang)澤結(jie)合力也很差(cha)(cha)。早(zao)期真(zhen)空(kong)鍍(du)膜(mo)是(shi)依靠蒸(zheng)(zheng)發(fa)(fa)體(ti)自然散射(she)，結(jie)合差(cha)(cha)工(gong)效低(di)光(guang)澤差(cha)(cha)。現在(zai)(zai)(zai)加(jia)(jia)上中頻(pin)磁控濺射(she)靶用磁控射(she)靶將(jiang)膜(mo)體(ti)的蒸(zheng)(zheng)發(fa)(fa)分子在(zai)(zai)(zai)電(dian)場的作用下(xia)加(jia)(jia)速(su)轟(hong)擊靶材(cai)，濺射(she)出大量的靶材(cai)原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在(zai)(zai)(zai)基片(pian)上成(cheng)膜(mo)，解決了過去(qu)自然蒸(zheng)(zheng)發(fa)(fa)無法加(jia)(jia)工(gong)的膜(mo)體(ti)品種，如鍍(du)鈦鍍(du)鋯等等。

你中(zhong)(zhong)頻(pin)設備必須加(jia)冷(leng)(leng)卻(que)水，原(yuan)因是它的頻(pin)率高電流(liu)大。電流(liu)在導(dao)(dao)體(ti)(ti)流(liu)動時有一個集(ji)膚效應(ying)，電荷會聚集(ji)在電導(dao)(dao)有表面積，這樣使電導(dao)(dao)發(fa)熱(re)所(suo)以(yi)采用中(zhong)(zhong)孔管做(zuo)導(dao)(dao)體(ti)(ti)中(zhong)(zhong)間(jian)加(jia)水冷(leng)(leng)卻(que)。

(主要是圓柱靶)為(wei)什么也要用(yong)水(shui)冷卻?

磁控濺(jian)射靶在發射時(shi)會產生高溫會使射槍(qiang)變形，所(suo)以它(ta)(ta)有一個水套來冷卻(que)射槍(qiang)。同時(shi)還有一個重要(yao)原(yuan)因磁控濺(jian)射可以被認為是鍍膜(mo)技術中*突出的成就(jiu)之一。它(ta)(ta)以濺(jian)射率高、基(ji)片(pian)溫升低、膜(mo)-基(ji)結合力好。

從更深層次研究(jiu)電子(zi)在非(fei)均勻電磁(ci)場中的(de)運動規(gui)律(lv),探討了磁(ci)控濺射(she)的(de)更一(yi)般原(yuan)理以(yi)及磁(ci)場的(de)橫向不均勻性(xing)及對稱性(xing)是磁(ci)約束的(de)本質原(yuan)因。磁(ci)控濺射(she)可以(yi)被認為(wei)是鍍膜技術中*突出的(de)成(cheng)就(jiu)之(zhi)一(yi)。它以(yi)濺射(she)率高、基片(pian)溫升(sheng)低、膜-基結合力(li)好(hao)、裝置性(xing)能穩定。

冷(leng)(leng)(leng)(leng)水(shui)(shui)機是一(yi)種水(shui)(shui)冷(leng)(leng)(leng)(leng)卻(que)設(she)備，能提供恒(heng)溫(wen)(wen)、恒(heng)流、恒(heng)壓的(de)冷(leng)(leng)(leng)(leng)卻(que)水(shui)(shui)設(she)備。其工(gong)作原(yuan)理是先向(xiang)機內水(shui)(shui)箱注入一(yi)定(ding)量(liang)的(de)水(shui)(shui)，通(tong)過制冷(leng)(leng)(leng)(leng)系統將水(shui)(shui)冷(leng)(leng)(leng)(leng)卻(que)，再由水(shui)(shui)泵將低溫(wen)(wen)冷(leng)(leng)(leng)(leng)卻(que)水(shui)(shui)送入需冷(leng)(leng)(leng)(leng)卻(que)的(de)設(she)備，冷(leng)(leng)(leng)(leng)凍水(shui)(shui)將熱量(liang)帶(dai)走后溫(wen)(wen)度升(sheng)高(gao)再回流到(dao)水(shui)(shui)箱，達到(dao)冷(leng)(leng)(leng)(leng)卻(que)的(de)作用。冷(leng)(leng)(leng)(leng)卻(que)水(shui)(shui)溫(wen)(wen)可(ke)根(gen)據(ju)要(yao)求自(zi)動調節，長(chang)期(qi)使用可(ke)節約用水(shui)(shui)。

冷水(shui)機(ji)(ji)能(neng)控(kong)制真(zhen)空鍍(du)膜機(ji)(ji)的(de)溫(wen)度，以保證(zheng)鍍(du)件的(de)高(gao)(gao)質量。如果不(bu)配冷水(shui)機(ji)(ji)就不(bu)能(neng)使真(zhen)空鍍(du)膜機(ji)(ji)達到高(gao)(gao)精度、高(gao)(gao)效率(lv)控(kong)制溫(wen)度的(de)目的(de)，因為自然(ran)(ran)水(shui)和水(shui)塔散熱都不(bu)可避(bi)免地受到自然(ran)(ran)氣溫(wen)的(de)影(ying)響，而(er)且(qie)此方式(shi)控(kong)制是極(ji)不(bu)穩定的(de)。

冷(leng)水(shui)機具有完全獨立的(de)制冷(leng)系(xi)統，絕不會受氣(qi)溫及(ji)環(huan)(huan)境的(de)影響，水(shui)溫在(zai)5℃～30℃范圍內調節控制，因而(er)可以達到(dao)高精度(du)、高效率控制溫度(du)的(de)目的(de)，冷(leng)水(shui)機設有獨立的(de)水(shui)循環(huan)(huan)系(xi)統。